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ITO | Indium Tin Oxide Nanopowder

氧化銦錫 | 摻錫氧化銦 | 納米氧化銦錫 | (ITO, In2O3:SnO2=90:10, Purity: 99.9%, APS: 30nm，50nm，200nm，500nm，2μm)

產(chǎn)品編號: SD-I812170 CAS 號: 50926-11-9 純度: 99.9%，Other Metal： 0.1%。氧化銦錫是銦（III族）氧化物(In2O3) and錫（IV族）氧化物(SnO2)混合物，比例：90%In2O3，10% SnO2。具有非常優(yōu)異的導(dǎo)電性、透明度和穩(wěn)定性。【應(yīng)用方向】：透明導(dǎo)電體，光學(xué)涂料，電磁（EMI）屏蔽、介電潤滑和VCSEL激光器反射器；LCD、OLED、等離子體、電致發(fā)光和電致變色顯示器，有機發(fā)光二極管、太陽能電池、抗靜電鍍膜，EMI屏蔽的透明傳導(dǎo)鍍膜，紅外反射涂層。

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貨號	價格 (￥)	庫存	總額
30nm-25g	￥ 1250	存貨	￥ 0.00
30nm-100g	￥ 2980	存貨	￥ 0.00
50nm-100g	￥ 2460	存貨	￥ 0.00
200nm-100g	￥ 2300	存貨	￥ 0.00
500nm-100g	￥ 2180	存貨	￥ 0.00
2μm-100g	￥ 1980	存貨	￥ 0.00

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別名:	氧化錫銦（ITO）粉末為黃綠色，但當(dāng)它被沉積成厚度為1000 – 3000埃的薄膜時是透明的。當(dāng)它沉積為玻璃或透明塑料上的薄膜時，其功用就是透明導(dǎo)電體。氧化錫銦（ITO）一般通過物理氣相沉積工藝進行沉積，如直流磁控濺射或電子束沉積。另外的做法是將氧化錫銦（ITO）用恰當(dāng)?shù)某赡じ叻肿訕渲腿軇┫到y(tǒng)融入墨水，用絲網(wǎng)印刷來沉積——這樣做的透明度和導(dǎo)電率比物理沉積工藝低。氧化錫銦（ITO）一般通過物理氣相沉積工藝進行沉積，如直流磁控濺射或電子束沉積。它還被應(yīng)用于抗靜電銦錫氧化物涂料、電磁（EMI）屏蔽、光伏太陽能電池、飛機擋風(fēng)玻璃、冷凍箱玻璃除霧等技術(shù)中。氧化錫銦（ITO）的應(yīng)用還包括紅外反射涂層，可以用在諸如低輻射玻璃和低壓鈉燈中反射熱能。
MDL No.:	MFCD00171662
分子式:	In₂O₃/SnO₂
分子量:	428.34
沸點:	82 °C
爆發(fā)點:	57.2 °F
貯存:	室溫,易燃物區(qū)域。密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發(fā)生團聚，影響分散性能和使用效果，另應(yīng)避免重壓，按照普通貨物運輸。