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Hafnium silicide powder | HfSi2

硅化鉿 | 二硅化鉿

產(chǎn)品編號: SD-H914213 CAS 號: 12401-56-8 純度: 99%;理化性質:黑色粉體; 不溶于水，溶于氫氟酸。應用方向:互補金屬半導體元件、薄膜涂層、塊體結構組件、電熱元件、熱電材料和光伏材料等領域。（1）硅化鉿用于陶瓷材料中，制造各種高溫部件和功能部件；（2）可制備碳化硅–硅化鉿–硅化鉭(SiC–HfSi2–TaSi2)抗燒蝕復合涂層碳纖維增強碳(C/C)復合材料，可用于燃氣渦輪發(fā)動機結構部件、適合在高溫和氧化的環(huán)境下工作；（3）制備有機電致發(fā)光器件。包括依次層疊的陽極、發(fā)光層、陰極及封裝蓋; （4）制備一種耐高溫抗氧化金屬陶瓷復合涂層，該復合薄膜特征在于該涂層由難熔金屬、難熔碳化物和金屬間化合物組成。

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別名:	二硅化鉿（HfSi2）是一種過渡金屬硅化物，是一類難熔的金屬間化合物，因其獨特的物理和化學性質而被應用于金屬陶瓷、高溫抗氧化涂層、高溫結構材料及航空、航天等領域。C/SiC復合材料材料中原位合成難熔金屬碳化物（HfC、HfC、TaC）可明顯提高其抗燒蝕性能，主要機理可歸納為抑制氧化作用、增強基體抗沖刷性能和彌補燒蝕后的缺陷，HfSi2可作為原位合成HfC的Hf源。性能特點： 1、純度高：XRD檢測無雜質相，或HfSi2+Si＞99%、氧含量低（XRD檢測不含HfO2相），融滲反應溫度低，產(chǎn)品密度好，無空洞； 2、分布集中：粒度標準正態(tài)分布，無雙峰或者多峰，可以根據(jù)客戶需求設計粒度分布范圍；
MDL No.:	MFCD00167026
分子式:	HfSi2
分子量:	234.66
熔點:	1680℃
貯存:	儲存于陰涼、通風的庫房，切忌混儲，保持容器密封，遠離火種，庫房必須安裝避雷設備。